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RF射頻低溫等離子處理設備RFD-200

  • 總供應量500
基本信息：
  • AC220（伏）功率
    800（瓦）
    否建議零售價
    ￥0.00
  • PLAUX-RFD-200原理
    等離子體
    工業用品牌
    PLAUX
詳細信息：

RFD-200 設備配置技術參數

機臺名稱：RF射頻低溫等離子設備

機臺型號：RFD-200

電源：AC220V（±10%）

功率：800VA

處理深度：100mm

主機尺寸：250(W)×200(H)×360(D)mm

主機重量：8kg

變壓器尺寸：250(W)×400(H) ×300(D)mm

變壓器箱重量：22kg

主機和變壓器之間的連線：